Российские литографы — ОКР на оборудование метрологического обеспечения

2 ноября 2024 года на на сайте госзакупок появилась заявка на разработку и изготовление «эталонного комплекса параметров лазерного излучения в ультрафиолетовой области спектра». Стоимость работ оценена в полмиллиарда рублей.

Несмотря на традиционную для технических специалистов корявость названия ОКР, можно понять, что речь идёт об оборудовании, необходимом для сравнения параметров лазеров, применяемых в литографах с эталонными, то есть, другими словами, для настройки (и даже поверке) средств измерений, необходимых в процессе разработки и эксплуатации источников излучения литографов. Наверное, правильнее было бы назвать это «комплексом для генерации лазерного излучения эталонных параметров».

Целью работы, как следует из пояснения, является всё та же «разработка эталонного комплекса параметров лазерного излучения в ультрафиолетовой области спектра для развития метрологического обеспечения разработки, производства, испытаний и эксплуатации лазерной техники, применяемой в литографическом оборудовании нового поколения».

Оборудование необходимо для «воспроизведения и передачи энергетических, спектральных и пространственно-энергетических единиц в ультрафиолетовой области спектра средствам измерений, применяемым при метрологическом обеспечении ультрафиолетовых лазеров в литографическом оборудования при разработке, производстве, испытаниях и эксплуатации».

То есть, действительно речь идёт о генерации эталонного излучения для настройки метрологического оборудования, применяемого при настройке источника излучения литографа. Вот так вот всё сложно ☺

Состав изделия

Исходя из технической документации, эталонный комплекс параметров лазерного излучения в ультрафиолетовой области спектра (ЭКУФ) должен включать:

▪ эталонную аппаратуру энергии лазерного излучения на длинах волн 193 и 248 нм (ЭАЭ);

▪ эталонную аппаратуру средней мощности энергетических параметров лазерного излучения на длинах волн 193 и 248 нм (ЭАСМ);

▪ эталонную аппаратуру пространственно-энергетических параметров лазерного излучения на длинах волн 193 и 248 нм (ЭАПЭП);

▪ эталонную аппаратуру единицы длины волны лазерного излучения в ультрафиолетовом спектральном диапазоне (ЭАДВ).

Каждый из вышеперечисленных узлов комплекса должен включать:

▪Источник лазерного излучения на длине волны 193 нм — для генерации импульсного лазерного излучения и обеспечения калибровки оптического канала на длине волны 193 нм при передаче единицы энергии лазерного излучения.

▪Источник лазерного излучения на длине волны 248 нм — для генерации импульсного лазерного излучения и обеспечения калибровки оптического канала на длине волны 248 нм при передаче единицы энергии лазерного излучения.

▪Устройство управления и обработки измерительной информации — для обеспечения взаимодействия составных частей эталонной аппаратуры, обработки, записи и визуализации измерительной информации.

▪Программное обеспечение, включающее системное и специальное программное обеспечение — для управления эталонной аппаратурой и обработки измерительной информации.

▪Система обеспечения кондиционирования помещения — для обеспечения поддержания климатических условий в помещении для эталонной аппаратуры.

▪Комплект ЗИП-О (запасные части, инструменты и принадлежности — одиночный комплект) — для обеспечения эксплуатации, технического обслуживания и текущего ремонта эталонной аппаратуры.

▪Эксплуатационная документация — для изучения правил эксплуатации эталонной аппаратуры.

То есть, действительно речь идёт о разработке оборудования для генерации эталонных параметров на длинах волн, соответствующих разрабатываемым для российских литографов эксимерным лазерам на 193 и 248 нм.

Это же подтверждает руководитель департамента электронного машиностроения международного научно-технологического центра (МНТЦ) МИЭТ Яков Петренко:

Заказанное Минпромторгом оборудование, это не совсем метрологическое оборудование — это эталон для поверки технических (а точнее оптических) параметров российских эксимерных лазеров, которые будут использованы в российских установках литографии. Эталон нужен для того, чтобы верифицировать заявленные параметры произведенного лазера на заданной длине волны.

Сроком завершения ОКР значится 30.04.2027.

Замечу, что ещё в сентябре я публиковал информацию о том, что ГК «Лассард» произвела 2 опытных образца эксимерного лазера: с источником излучения 248 нм (средний ультрафиолет, MUV) который является важным элементом будущего российского литографа для техпроцесса 130 нм и с источником излучения 193 нм (дальний или глубокий ультрафиолет, DUV) для следующего литографа на 90 нм.

В 2026-м году должен завершится ОКР на российский литограф 130 нм, что, кстати, на год раньше, чем подоспеет вышеописанный комплекс. То есть, он, видимо, будет использоваться уже при окончательной настройке собранного оборудования и вводе его в эксплуатацию.

Электромозг