Зеленоградский нанотехнологический центр (ЗНТЦ) с участием белорусской компании «Планар» создал фотолитограф, предназначенный для производства микросхем и первых совместных с Беларусью микророботов и нанороботов с разрешением 350 нм. Эта установка уже успешно прошла государственные испытания, и её главной особенностью является использование твердотельного лазера вместо ртутной лампы. Хотя 350-нм техпроцесс сегодня считается устаревшим, новое оборудование может найти применение в автомобильной и военной отраслях.
ЗНТЦ также активно работает над созданием фотолитографа для 130-нм техпроцессов, завершение которого ожидается к 2026 году. Новый фотолитограф значительно превосходит предыдущие модели по ряду параметров: увеличена площадь рабочего поля (22×22 мм вместо 3,2×3,2 мм) и максимальный диаметр обрабатываемых пластин (200 мм вместо 150 мм). По словам генерального директора ЗНТЦ Анатолия Ковалева, впервые в мировой практике в качестве источника излучения используется твердотельный лазер, который отличается большей мощностью, энергоэффективностью и долговечностью.
Для сравнения, ведущий производитель литографических систем, нидерландская ASML, использует два основных типа источников ультрафиолетового излучения: ртутные дуговые лампы и лазеры на основе KrF (фторид криптона) или ArF (фторид аргона). Выбор источника зависит от модели литографа и требований технологического процесса. Для 350-нм техпроцессов применялись ртутные лампы с длиной волны 365 нм, для 250-нм и более совершенных — источники на основе фторида криптона (248 нм), а для техпроцессов 130 нм и менее — DUV-системы с фторидом аргона (193 нм).
Твердотельные лазеры и ранее использовались в производстве полупроводниковых компонентов, но только для вспомогательных целей — анализа качества продукции, поиска дефектов или механической обработки кремниевых пластин. Теоретически они могли бы применяться и для экспонирования при производстве чипов с литографическими нормами от 250 нм и выше. Однако ASML с 90-х годов предпочитала эксимерные лазеры на основе фторидов криптона или аргона.
Сейчас ЗНТЦ адаптирует технологические процессы под нужды конкретных заказчиков и заключает контракты на поставку оборудования. Испытания пройдут на специализированной площадке центра, что позволит избежать простоев на действующих производствах.
Как отмечает цифровое издание Tom's Hardware, 350-нм техпроцесс сегодня считается устаревшим. В середине 1990-х годов Intel использовала его для своих процессоров Pentium MMX, Pentium Pro и ранних Pentium II, а AMD в 1997 году выпустила процессор K6, используя ту же технологию.
Современные чипы производятся по нормам ≤5 нм. Российские производители микросхем, такие как «Ангстрем» и «Микрон», используют техпроцессы 250-90 нм. Поэтому новый фотолитограф не соответствует текущим потребностям крупных российских предприятий.
Тем не менее, инструмент ЗНТЦ может найти применение в отдельных отраслях, где используются зрелые техпроцессы, например, в производстве микросхем для автомобилей и систем управления питанием. Фотолитограф также может быть полезен в военной сфере, где передовая производительность не всегда критична. Вероятно, основная цель новой машины — стать основой для более мощных версий.
Сейчас ЗНТЦ разрабатывает модель для 130-нм техпроцессов, завершение которой ожидается в 2026 году. Это часть дорожной карты, согласно которой Россия планирует освоить 90-нм техпроцессы к 2025 году, 28-нм к 2027-му и 14-нм к 2030-му. Однако ЗНТЦ и другие российские компании увы, пока отстают от этого графика.
Оценили 0 человек
0 кармы