Как известно, для независимого производства чипов нужны не только литографы (они всего лишь засвечивают резист) и другое оборудование литографических линий, которое уже непосредственно наносит нужные материалы на кремниевые пластины или убирает с них лишнее. Очень важной частью независимости является также производство многочисленных химических материалов и специальных электронных газов, которые используются внутри технологического процесса такого производства.
О проблемах с отечественной чистой химией мне писали в комментариях очень часто, когда я рассказывал про разработку литографов. Говорили, что ничего нет, всё до сих пор импортное. Да, не всё так просто и с самими веществами, и с сырьём для их производства. Есть проблемы даже со специальной тарой, которая бы не загрязняла эти вещества. Но работы идут и всё это решается.
Вы удивитесь, но работы по отечественным чистым веществам начались ещё в районе 2019-м года.
Два года назад я писал о соответствующем НИР (научно-исследовательская работа) на тему «Разработка и освоение производства литографических материалов для микроэлектронного производства».
В процессе научно-исследовательской работы предполагалось создание фоторезистов для использования в процессе фотолитографии с длинной волны лазерного излучения 248 нм. Такой длиной волны будут обладать разрабатываемые в настоящее время литографы для топологических норм 350 и 130 нм. Замечу, что начиная с 90 нм уже используется длина волны 193 нм.
Сроком окончания работ значится 12.12.2025, то есть, к концу этого года, но проведение опытно-технологических работ и предварительных испытаний опытных партий материала намечено до 12.12.2024, то есть, по идее, они уже должны быть проведены… А как с этим на самом деле?
На днях, 26 февраля 2025-го года на сайте Микрона появилось сообщение, что он успешно тестирует первый высокочувствительный фоторезист отечественного производства для техпроцессов, внимание, 90 нм, уже довольны им и с гордостью готовы предложить его даже на внешнем рынке, например, своим китайским коллегам (и не только фоторезист но и ещё ряд материалов)! Вот те на… слом шаблона…
Это что же получается!? (С) Василь Вакаров.
Одновременно с фоторезистом для волны излучения 248 нм уже разработан фоторезист и для более короткой волны 193 нм? Неожиданно… Причём, как выясняется, этот ОКР «Резист-1» между Минпромторгом России и АО «НИИМЭ» начался ещё в конце 2021-го года и перешёл в ОКР «Резист-1П» начале 2022 года, но я его как-то пропустил. И вот, он завершился во-время и с хорошим результатом.
А что же ещё из химии разрабатывают?
В середине 2023 года было ещё несколько НИР по химии для радиоэлектронной промышленности:
▸НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство этилендиамина»
▸НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство лимоннокислого калия, аммония и натрия»
▸НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство тиомочевины»
▸НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство тартрата натрия»
▸НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство нитрата таллия»
В конце 2024 года Минпромторг заказал ещё 13 «химических» НИР:
▸НИР «Разработка и постановка на производство материалов (композиций) для нанесения планаризующих слоев»
▸НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство олигоаминоимида типа ПАИС-104»
▸НИР «Разработка и постановка на производство особо чистого хлора (Cl₂)»
▸НИР «Разработка и освоение производства водных растворов суспензий для барьерного (Ta/TaN) и медного слоев»
▸НИР «Разработка технологии и постановка на производство комбинированного материала для химико-механической полировки слоев»
▸НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство композитного клея»
▸НИР «Разработка технологии и постановка на производство на производство транс-1,2–дихлорэтилен»
▸НИР «Разработка и постановка на производство клеев эпоксидных термоотверждаемых с быстрым отверждением, используемых в производстве изделий электронной техники»
▸НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство высокочистого гексаметилдисилизана (ГМДС)»
▸НИР «Разработка технологии получения и постановка на производство тетрафторида кремния особо чистого»
▸НИР «Разработка и постановка на производство особо чистого октафторциклобутана (C₄F₈)»
▸НИР «Разработка и постановка на производство особо чистого фторметана (CH₃F)»
▸НИР «Разработка и постановка на производство особо чистого дифторметана (CH₂F₂)»
Всего в 2023-2024 годах Минпромторгом России был запущен 41 НИР по производству 91 материала, а в 2025 году планируется запуск 20 НИР по производству 20 новых материалов, а всего к 2029-му году планируется поставить на производство 313 новых материалов.
На 2025 год запланирован запуск 56 новых производств химических материалов.
А что готово уже сейчас?
Год назад (в начале 2024-го) появилось сообщение, что завод «Микрон» аттестовал к применению в серийном производстве 26 российских химических материалов для производства микросхем с топологией 180-90 нанометров (еще 28 находятся в разработке).
При этом на Форуме будущих технологий было официально объявлено, что на технологии 180 нм, которая является для завода Микрон наиболее «ходовой», они использует 43 химических материала и 39 специальных электронных газов.
генеральный директор ПАО «Микрон» Хасьянова Гульнара Шамильевна
Из 43 химических материалов:
▸16 материалов уже ввели в промышленное производство;
▸17 материалов находятся в разработке (либо по НИР’ам Минпромторга, либо производителями самостоятельно под гарантии последующей закупки материалов Микроном);
▸10 материалов ищут разработчика и поставщика.
Из 39 специальных электронных газов:
▸18 газов уже ввели в промышленное производство;
▸️7 газов уже разработано и готовятся к апробации;
▸️6 газов находятся в разработке;
▸️8 газов ищут разработчика и поставщика.
Ещё раз обращаю внимание, упор сделан на веществах для техпроцесса 180 нм. Для более тонких техпроцессов требуются вещества более высокой степени чистоты, но такие работы тоже ведутся.
Основная проблема чистых веществ
Наиболее актуальной проблемой в настоящее время Микрон видит вынужденное тестирование новых материалов на рабочем оборудовании, на действующих установках, а не на специальных полигонах, как это обычно происходит во всём мире. Конечно, это вызывает свои трудности.
Как выход, Микрон предлагает создать полигон, на котором бы можно было одновременно тестировать и новые материалы и одновременно «притирать» к ним создаваемое сейчас российское оборудование, дорабатывая его с учётом свойств этих материалов. То есть, заходить как бы с двух сторон, что приведёт к идеальной гармонии железа и химии для него.
На сегодня линейка серийного производства микросхем на заводе Микрон построена на базе американского и японского оборудования, однако сейчас идут тесты китайского и отечественного оборудования, В сборочном производстве в настоящий момент находится 30% отечественного оборудования, и такой полигон для его тонкой доводки был бы весьма кстати.
e-g
Оценили 10 человек
12 кармы