В России разработают лазеры для производства микро чипов

 Минпромторг заказал разработку и освоение производства гелий-неоновых лазеров и фотоприемников для систем позиционирования оборудования, применяемого в производстве интегральных схем (ИС) с топологическими нормами до 65 нм. Соответствующий тендер был опубликован на портале госзакупок в ноябре 2024 г.

 Разрабатываемый комплект предназначен для замены лазеров модели 5517C и фотоприемников моделей E1709A и 10780F производства американской фирмы Keysight в зарубежном оборудовании, а также в действующем и разрабатываемом отечественном оборудовании.

Комплект будет установлен в действующие литографические степперы и сканеры Nikon серий SF 204 - 206, i-11, i-12, ASML серии PAS-5500, а также генераторы изображений топологических структур на фотошаблонах

При этом разрабатываемые лазеры будут достаточно сильно отличаться от лазеров, которые обычно используются в литографическом оборудовании. В качестве рабочего лазера в литографии как правило используются эксимерные лазеры с длиной волны 355, 248 или 193 нанометра, а в этой работе планируется разработке гелий-неонового лазера на длине волны 632 нанометра

Комплектующие изделия и материалы должны быть отечественного производства и обеспечивать отсутствие критической зависимости от иностранных производителей.